電子部品

FPD工場

使用場所 FPD工場
使用目的 洗浄(井水処理)
装置の型番 PNET-40000HG×2
システム構成 PNET-40000HG、イオン交換樹脂、高精度水質モニター、タンク(SUS)、流水型紫外線殺菌灯、除菌フィルター等 ×2 ユニット
制御
生産水量 1.6t/h×2
水質 ≦18MΩ

塩化ビニール管工場

使用場所 塩化ビニール管工場
使用目的 洗浄(市水処理)
装置の型番 PNET-80000HG
システム構成 PNET-80000HG、イオン交換樹脂、高精度水質モニター、流水型紫外線殺菌灯、除菌フィルター等
制御
生産水量 3.3t/h
水質 ≦5 MΩ

清涼飲料水工場

使用場所 清涼飲料水工場
使用目的 原料水(原水…井戸水)
装置の型番 PNET-380000RO
システム構成 PNET-380000RO(逆浸透膜二段仕様)、前処理ユニット、10tタンク(SUS)、浸績型紫外線殺菌灯、高精度水質モニター等
制御
生産水量 15.8t/h
水質 ≦1μS/cm

精密メッキ工場

使用場所 精密メッキ工場
使用目的 洗浄(市水処理)
装置の型番 PNET-3.3HG-W
システム構成 PNET-3.3HG-W(逆浸透膜二段仕様)、前処理ユニット、パネルタンク(SUS)、浸績型紫外線殺菌灯等
制御
生産水量 3.2t/h
水質 ≦1μS/cm

簡易水道設備

使用場所 簡易水道設備
使用目的 飲料水(井水処理)
装置の型番 PNET-10TPH-NEO
システム構成 PNET-10TPH-NEO、前処理
制御
生産水量 10.0t/h
水質 約20μS/cm以下

宇宙航空研究開発機構(JAXA)

使用場所 宇宙航空研究開発機構(JAXA)
使用目的 精密加湿(市水処理)
装置の型番 PNET-14000NEO×2ユニット
システム構成 PNET-14000NEO、1000Lタンク(SUS)、高精度水質モニター、浸績型紫外線殺菌灯、送水ポンプ等 ×2
制御
生産水量 583L/h
水質 ≧10μS/cm

化粧品工場

使用場所 化粧品工場
使用目的 基礎水(市水処理)
装置の型番 PNET-14000NEO
システム構成 PNET-14000NEO(殺菌循環仕様)、高精度水質モニター、高精度バッチユニット、流水型紫外線殺菌灯等
制御
生産水量 583L/h
水質 ≦10μS/cm

ハロゲンランプ工場

使用場所 ハロゲンランプ工場
使用目的 ガラス加工・洗浄(井水処理)
装置の型番 PNET-12000aqHG×2 ユニット
システム構成 PNET-12000aqHG、瞬間・積算流量計、イオン交換樹脂等 ×2 ユニット
制御
生産水量 500L/h×2
水質 ≦1μS/cm

精密部品工場

使用場所 精密部品工場
使用目的 洗浄(市水処理)

装置の型番 PNET-14000NEO
システム構成 PNET-14000NEO、500Lタンク(SUS)、高精度水質モニター、浸績型紫外線殺菌灯等
制御
生産水量 583L/h
水質 ≦5μS/cm

精密ガラス加工工場

使用場所 精密ガラス加工工場
使用目的 表面処理・洗浄(市水処理)
装置の型番 PNET-20000NEO
システム構成 PNET-20000NEO、瞬間・積算流量計、簡易水質モニター、250Lタンク(SUS)、浸積型紫外線殺菌等
制御
生産水量 833L/h
水質 ≦5μS/cm

電子部品

電子部品工場

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電子部品メーカー

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電子部品メーカー

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部品メーカー

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電子部品洗浄

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